Interface Trapping Effects of a MOSCAP
Application ID: 67121
This tutorial compares experimental data from the literature with a COMSOL model of a MOSCAP with interface traps (surface states). The Trap-Assisted Surface Recombination feature is used to simulate the effects of the trap charges and the processes of carrier capturing and emitting by the traps. The effect of the fixed charges in the gate oxide is also included. The computed values of the capacitance and conductance as functions of the gate voltage and frequency reproduce the qualitative behavior of the experimental data with comparable magnitudes. The model uses the quasi-Fermi level formulation and shows how to plot quantities such as the trap occupancy as a function of the energy.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.