DC Characteristics of a MESFET
Application ID: 14999
In a MESFET, the gate forms a rectifying junction that controls the opening of the channel by varying the depletion width of the junction.
In this model we simulate the response of a n-doped GaAs MESFET to different drain and gate voltages. For a n-doped material the electron concentration is expected to be orders of magnitude larger than the hole concentration. Accordingly, it is possible to use the majority carrier option to compute an accurate solution with less degrees of freedom then it would normally be needed using the electrons and holes formulation.
The agreement between the two methods is excellent, but the majority carrier formulation solves twice as fast.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.