Density-Gradient and Schrödinger–Poisson Results for a Silicon Inversion Layer
Application ID: 73381
This tutorial demonstrates the use of the density-gradient formulation to include the effect of quantum confinement in the device physics simulation of a silicon inversion layer. This formulation requires only a moderate increase of computational resources as compared to the conventional drift-diffusion equation. Thus it allows much speedier engineering investigation than other more sophisticated quantum mechanical methods. The result of the density-gradient theory is compared with the solution of the Schrödinger-Poisson equation. The computed electron density profiles from both theories show the expected behavior of quantum confinement and both agree well with the published figures in the reference paper.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.