3D Density-Gradient Simulation of a Nanowire MOSFET
Application ID: 73771
This 3D model of a nanowire MOSFET employs the density-gradient theory to add the effect of quantum confinement to the conventional drift-diffusion formulation, without requiring excessively high computational costs. The oxide layer is simulated explicitly with geometric domains, and quantum confinement at the silicon-oxide interface is accounted for via a dedicated boundary condition. The density-gradient effective mass is anisotropic. Various selection utilities are used to simplify the assignment of physics settings and plot selections. The result matches well with the Id-Vg curves and electron density profiles published in the reference paper.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.