Surface Chemistry Tutorial Using the Plasma Module
Application ID: 9663
Surface chemistry is often an overlooked aspect of reacting flow modeling. This tutorial model shows how surface reactions and species can be added to study processes like chemical vapor deposition (CVD). The tutorial then models silicon growth on a wafer.
Initially, the example uses a global model to investigate a broad region of parameters with complex chemistry. Then, a space-dependent model is set up and run. Careful attention is paid to the overall mass balance in the system while the difference between the mass-averaged velocity and diffusion velocity is explored. The model demonstrates that the total mass and molar concentration in the system is conserved. Finally, the height of the deposited silicon is studied as a function of time.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.