Electrostatic Chuck
Application ID: 105311
This models pressure-dependent heating of 4 inch wafer on unipolar electrostatic chuck. Wafer sits on top of ring with electrostatic force holdong down wafer to counter upward pressure from gas flowing in gap between wafer and chuck surface. It is a problem involving 4 coupled physics (SM, ES, LF + HT) and moving mesh.
involves electrostatic force, fluid-structure interaction and heat transfer.
for now it is 2d Axisymmetric but can be adapted to a 3D model with more detailed gas channel patterns on e-chuck surface.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
- COMSOL Multiphysics® und
- MEMS Module und
- entweder CFD Module, Microfluidics Module, oder Plasma Module
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.