Chlorine Discharge Global Model
Application ID: 47611
Plasma discharges containing chlorine are commonly used to etch semiconductors and metals in microelectronics fabrication.
This tutorial model studies chlorine plasma discharges using a global (volume-averaged) diffusion model. Global diffusion models can run simulations in a fraction of the time it would take for space-dependent models. This makes them a good choice to study large reaction sets and extended parameter regions.
The Chlorine Discharge model explores absorbed powers from 50 to 600 W, working with pressures from 1 to 100 mTorr. Model results of several relevant quantities such as electron density, electron temperature, and atomic chlorine density are in good agreement with measurements performed in inductively coupled plasma reactors, found in the literature.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.