|
Heißwandofen für die Herstellung und das Ausglühen von Halbleitern. Gezeigt ist ein komplettes multiphysikalisches Modell: aus dem elektromagnetischen Verhalten des Substrats wird dessen elektrischer Widerstand berechnet und mit dem Wärmetransport durch Leitung und Strahlung gekoppelt. Mit der neuen Applikation ‚induction heating’ kann ein solches Modell leicht simuliert werden. |
High Resolution Images
- hot_wall_furnace.tif - 640 KB