Surface Trapping in a Silicon Nanowire Gate-All-Around Device
Application ID: 19703
A gate-all-around MOSFET consists of a nanowire with a gate electrode wrapped around the circumference. Since the entire nanowire forms the channel, this configuration provides the best possible electrostatic control of the channel and offers a good candidate for the miniaturization of MOSFETs.
This model analyzes a silicon nanowire gate-all-around device, with different trap densities at the gate surface. The effect of the traps is to shield the electric field from the gate and thus increase the threshold voltage for opening the channel.
This model requires the Semiconductor Module.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.