Chemical Etching
Application ID: 44481
This example illustrates the principle of wet chemical etching for 2D geometry under laminar flow. The purpose of this tutorial is to examine how the copper substrate material is depleted and how the cavity shape evolves during the wet etching process. Wet chemical etching is particularly important for microelectronics industry for patterning of integrated circuit, MEMS devices, optoelectronic and pressure sensors. Wet etching processes use solution based (“wet”) etchants, where the substrate to be etched is immersed in a controlled flow of etchant.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.