Boat Reactor for Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
Application ID: 249
Chemical vapor deposition (CVD) is an important step in the process of manufacturing microchips. One common application is the deposition of silicon on wafers in low pressure reactors to obtain uniform deposition thicknesses.
This example models the coupled reaction kinetics, fluid flow, and mass transport in a low-pressure boat reactor. The simulation investigates how the silicon deposition rate and thickness varies in the reactor with operating conditions such as temperature and pressure.
Dieses Beispiel veranschaulicht Anwendungen diesen Typs, die mit den folgenden Produkten erstellt wurden:
Allerdings können zusätzliche Produkte erforderlich sein, um es vollständig zu definieren und zu modellieren. Weiterhin kann dieses Beispiel auch mit Komponenten aus den folgenden Produktkombinationen definiert und modelliert werden:
- COMSOL Multiphysics® und
- entweder Battery Design Module, Chemical Reaction Engineering Module, Corrosion Module, Electrochemistry Module, Electrodeposition Module, oder Fuel Cell & Electrolyzer Module und
- entweder Battery Design Module, Chemical Reaction Engineering Module, Corrosion Module, Electrochemistry Module, Electrodeposition Module, Fuel Cell & Electrolyzer Module, Microfluidics Module, Porous Media Flow Module, oder Subsurface Flow Module
Die Kombination von COMSOL® Produkten, die für die Modellierung Ihrer Anwendung erforderlich ist, hängt von verschiedenen Faktoren ab und kann Randbedingungen, Materialeigenschaften, Physik-Interfaces und Bauteilbibliotheken umfassen. Bestimmte Funktionen können von mehreren Produkten gemeinsam genutzt werden. Um die richtige Produktkombination für Ihre Modellierungsanforderungen zu ermitteln, lesen Sie die Spezifikationstabelle und nutzen Sie eine kostenlose Evaluierungslizenz. Die COMSOL Vertriebs- und Support-Teams stehen Ihnen für alle Fragen zur Verfügung, die Sie diesbezüglich haben.